mos管即在集成電路中絕緣性場(chǎng)效應(yīng)管。是金屬(metal)—氧化物(oxid)—半導(dǎo)體(semiconductor)場(chǎng)效應(yīng)晶體管?;蛘叻Q(chēng)是金屬—絕緣體(insulator)—半導(dǎo)體。MOS管的source和drain是可以對(duì)調(diào)的,都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下,這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的,即使兩端對(duì)調(diào)也不會(huì)影響器件的性能。這樣的器件被認(rèn)為是對(duì)稱(chēng)的。
MOS電容的特性能被用來(lái)形成MOS管。Gate,電介質(zhì)和backgate保持原樣。在GATE的兩邊是兩個(gè)額外的選擇性摻雜的區(qū)域。其中一個(gè)稱(chēng)為source,另一個(gè)稱(chēng)為drain。假設(shè)source 和backgate都接地,drain接正電壓。只要GATE對(duì)BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓,就不會(huì)形成channel。Drain和backgate之間的PN結(jié)反向偏置,所以只有很小的電流從drain流向backgate。如果GATE電壓超過(guò)了閾值電壓,在GATE電介質(zhì)下就出現(xiàn)了channel。這個(gè)channel就像一薄層短接drain和source的N型硅。由電子組成的電流從source通過(guò)channel流到drain??偟膩?lái)說(shuō),只有在gate對(duì)source電壓V超過(guò)閾值電壓Vt時(shí),才會(huì)有drain電流。除了以上產(chǎn)品外,公司同時(shí)還供應(yīng)有三端穩(wěn)壓芯片、降壓芯片等產(chǎn)品,我們公司具備有*實(shí)戰(zhàn)的技術(shù),專(zhuān)業(yè)的運(yùn)營(yíng)團(tuán)隊(duì),為您創(chuàng)造以用戶(hù)體驗(yàn)為前提的服務(wù),服務(wù)的至善至美是我們永無(wú)止境的追求。因?yàn)橐悦駷楸?,所以值得信?lài);因?yàn)閷?zhuān)業(yè)專(zhuān)職,所以值得選擇.以上信息僅供參考,詳情請(qǐng)致電相關(guān)工作人員為您解答。